第六百二十三章 掩模对准曝光设备(第1页)

“我们公司之前提出的事情?”

听到这位白大褂教授的话,楚扬不由微微一愣,一时没有明白对方所说的是指什么事情。

一旁的迈克尔则是眼中一亮,

“老师,您说的难道是掩模对准曝光设备?”

掩模对准曝光设备?

听到这个有些古怪的名称,楚扬先是一愣,然后突然间想到了什么,心中直接猛地一跳,不可置信地看向这位禁欲系美女教授,

“奥得蒙教授,您说的难道……难道是光刻机??”

他隐约记得,光刻机的正规学名好像就是“掩模对准曝光设备”!

因为所谓“光刻”,便是在硅片的基底表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶,再用特定光线透过包含目标图案信息的掩模板照射在基底表面,被光线照射到的光刻胶则会发生反应,形成掩膜板上设定好的精密线路,如同刻录效果。

所以这种根据掩模板,使用特殊光线对硅片进行曝光“刻录”的设备,便叫做“掩模对准曝光设备”,俗称光刻机!

在楚扬不可置信的目光之中,白大褂女教授微微点头,

“嗯,两台光刻机主体设备前两天已经组装完成,其他配套组件也已经在测试……”

“如果不出什么意外的话,明天上午这两套设备便可以完成测试组装,然后正常投入使用。”

看着这位禁欲系女教授如此轻描淡写的平淡表情,就仿佛在说着一件十分微不足道的事情一样,楚扬无比艰难地咽了口唾沫。

这可是光刻机啊,最近十几年甚至几十年掣肘整个华夏半导体发展的关键!

这才短短几个月的时间,对方就如此轻松地搞出来了?

这怎么可能??

即便对方是之前全球最顶级的光学研发团队之一,楚扬也很难相信这件事情!

“奥……奥得蒙教授,您刚刚所说的这两套光刻机设备,不知道能够达到的生产制程标准是?”

在他看来,如果真的能够在这么短的时间内完成,那估计是早就被市场淘汰的技术设备了。

可是这位禁欲系美女教授的回答却让他再次呆立当场!

“28nm以上都没有问题。”

“这……”

听到对方口中的淡淡声音,楚扬的喉咙动了动,呼吸都变得有些急促起来。

虽然知道这件事情几乎不可能,但直觉又告诉他,这个禁欲系女教授说的应该
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