第536章 他们要造的,是国产EUV光刻机!(第1页)

三位院士。

顾明远提到这个阵容的时候,陈知远就知道,这次邀请绝不是让他过去挂个名字。

此前的联合项目规模已经不小,这次却又高了一个层级。

邀请函只写明参与身份和报到要求,具体内容并未透露。

两天后。

一处联合科研中心的会议室里,顾明远把他领到靠前的位置。

会议桌边坐着十来个人,最年轻的看上去也有三十多岁。

几个人正在低声讨论,投影幕布上停着一幅密密麻麻的曲线图。

陈知远刚坐下,一位头发花白的老人便抬起头。

“陈知远?”

“周院士,您好。”

老人笑了笑:“我看过你们那篇论文,瑞士那边开会的时候,有人把你的报告发给我了。”

他叫周启山,是这次专项整机系统方向的负责人之一。

“你之前做的是精密光学和测量,跟我们这里有不少相通的地方。”

周启山说着,示意旁边的工作人员切换投影。

“不过,我得先让你知道,我们究竟在做什么。”

屏幕亮了起来,一行字出现在最上方。

【国产极紫外光刻装备关键技术联合攻关。】

下面还有一个数字:13.5nm。

陈知远的目光微微一凝,“EUV光刻机?”

“对。”

周启山没有卖关子。

“准确地说,是围绕国产EUV原型平台开展整机攻关,光源、反射光学、工件台、测量和控制,各家单位都有自己的任务,我们现在最头疼的,是把这些东西真正拧成一台能稳定工作的机器。”

会议室安静了下来。

EUV光刻机不是有了光就能造芯片。

它要把极小的图形一次次准确地投到指定位置,稍有偏差,就可能整片报废。

眼下原型平台已经完成基础曝光验证,却远没达到稳定工作的程度。

“看这两组结果。”

周启山指向屏幕。

第一张图上,排列整齐的线条清晰可见。

第二张图却明显不同。

同样的测试条件,连续进行多次曝光后,图形的位置出现了逐渐累积的偏移。

“单次结果能做得漂亮,连续工作就不稳定。”

负责控制系统的一位研究员开口道:

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